Opakowanie zawiera krem ​​na dzień Eucerin Hyaluron-Filler SPF 30 oraz wkład wymienny, oferując kompleksowe rozwiązanie przeciwstarzeniowe, które wypełnia głębokie zmarszczki, intensywnie nawilża skórę i chroni przed przedwczesnym starzeniem się wywołanym promieniowaniem słonecznym. Zaletą jest również przyjazny dla środowiska format.

Z biegiem czasu produkcja kwasu hialuronowego w naszej skórze maleje, co prowadzi do powstawania drobnych linii i zmarszczek. Eucerin Hyaluron-Filler Day SPF 30, dzięki innowacyjnej formule Triple Effect (x3), skutecznie przeciwdziała temu procesowi:

WYPEŁNIA drobne linie i głębokie zmarszczki.

Stymuluje syntezę kwasu hialuronowego w ponad 200% i syntezę kolagenu w ponad 49%.

CHRONI przed degradacją kwasu hialuronowego w ponad 50%.

Unikalne połączenie kwasu hialuronowego o wysokiej i niskiej masie cząsteczkowej działa na różne warstwy skóry: kwas hialuronowy o wysokiej masie cząsteczkowej poprawia nawilżenie i wygładza warstwy zewnętrzne, podczas gdy kwas hialuronowy o niskiej masie cząsteczkowej, 40 razy mniejszy, wnika w najgłębsze warstwy, gdzie powstają zmarszczki. Saponina glicynowa stymuluje naturalną produkcję kwasu hialuronowego w skórze i działa jako przeciwutleniacz, a enoksolon chroni naturalny kwas hialuronowy skóry przed degradacją.

Dodatkowo krem ​​na dzień zawiera filtry SPF 30 i UVA, które skutecznie zapobiegają fotostarzeniu, głębokim zmarszczkom i chronią skórę przed wolnymi rodnikami.

Wkład Hyaluron-Filler Day Refill SPF 30 zachowuje dokładnie tę samą formułę przeciwstarzeniową i nawilżającą, ale w bardziej zrównoważonym formacie, zawierającym o 90% mniej plastiku w porównaniu ze standardowym opakowaniem. Ten wkład przyczynia się do redukcji odpadów i bardziej ekologicznego cyklu życia produktu. Jest kompatybilny ze wszystkimi opakowaniami Eucerin Facial Care.

Maseczka działa holistycznie, wypełniając, nawilżając, chroniąc i odmładzając skórę, oferując jednocześnie zrównoważoną alternatywę pozwalającą na kontynuację codziennej pielęgnacji przeciwstarzeniowej.